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美國Fischione離子束銑削和拋光機型號1061
2025-02-05 09:13:36

SEM磨削

電子反向散射衍射(EBSD)環(huán)境控制的樣品制備離子束制備SEM樣品制備

最先進的離子銑削和拋光系統(tǒng)。它是緊湊的,精確的,并且始終如一地產(chǎn)生高質(zhì)量的掃描電子顯微鏡樣品,以最短的時間用于多種應(yīng)用。

 

MODEL 1061SEM 研磨機

這是一款先進的離子研磨和拋光系統(tǒng)。它結(jié)構(gòu)緊湊、精度高,能夠在最短時間內(nèi)為各種應(yīng)用 consistently 生產(chǎn)出高質(zhì)量的掃描電子顯微鏡(SEM)樣品。

 

Model 1061 SEM Mill 規(guī)格說明

 

離子源

 

兩個TrueFocus離子源

 

可變能量操作(100 eV 至 10.0 keV)

 

束流密度高達 10 mA/cm2

 

研磨角度范圍:0 至 +10°

 

可選擇單離子源或雙離子源操作

 

手動或電動(可選)離子源角度調(diào)節(jié)

 

獨立的離子源能量控制

 

可調(diào)節(jié)的束斑尺寸

 

每個離子源配備法拉第杯,用于直接測量束流,便于優(yōu)化和調(diào)整離子源參數(shù)以適應(yīng)特定應(yīng)用

 

樣品臺

 

樣品尺寸:

 

橫截面*

 

最大:10 x 10 x 4.0 mm [0.39 x 0.39 x 0.157 in.]

 

最小:3 x 3 x 0.7 mm [0.12 x 0.12 x 0.028 in.]

 

平面

 

直徑32 mm,高度25 mm [1.25 x 1 in.]

 

自動樣品厚度檢測,以確定研磨平面并最大化處理效率

 

360°樣品旋轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速可調(diào)

 

樣品搖擺功能

 

磁性編碼器提供絕對定位精度

 

用戶界面

 

通過254 mm [10 in.]、符合人體工程學(xué)的可調(diào)節(jié)觸摸屏控制儀器操作

*標準尺寸;其他尺寸可根據(jù)要求提供。

 

MODEL 1061SEM Mill

這是一款先進的離子研磨和拋光系統(tǒng)。它結(jié)構(gòu)緊湊、精度高,能夠在最短時間內(nèi)為各種應(yīng)用 consistently 生產(chǎn)出高質(zhì)量的掃描電子顯微鏡(SEM)樣品。

 

真空系統(tǒng)

 

渦輪分子拖曳泵和無油多級隔膜泵

 

冷陰極全范圍真空傳感器

 

工藝氣體

 

超高純氬氣(99.999%);標稱輸送壓力為15 psi

 

使用兩個質(zhì)量流量控制器實現(xiàn)自動氣體控制

 

自動終止

 

通過時間或溫度自動終止

 

原位觀察和成像

 

使用立體顯微鏡或高倍顯微鏡時,可在研磨位置原位監(jiān)測樣品

 

觀察窗口由可編程快門保護,防止濺射材料堆積并保持原位觀察樣品的能力

 

樣品冷卻(可選)

 

液氮傳導(dǎo)冷卻,配備集成杜瓦瓶和自動溫度聯(lián)鎖

 

杜瓦瓶靠近儀器操作員

 

可編程并保持從環(huán)境溫度到低溫的特定溫度

 

可選:

 

標準杜瓦瓶容量(3至5小時的低溫條件)

 

擴展杜瓦瓶容量(12小時以上的低溫條件)

 

真空或惰性氣體傳輸膠囊(可選)

 

允許在真空或惰性氣體環(huán)境中傳輸或存儲樣品

 

橫截面工作站(可選)

 

生產(chǎn)高質(zhì)量的橫截面樣品

 

樣品通過粘合劑固定在掩膜上

 

允許精確定位感興趣區(qū)域(X、Y和θ)

 

適用于多種材料,包括半導(dǎo)體器件、多層材料、陶瓷和硬/脆材料

 

制備的感興趣區(qū)域平坦且無損傷,便于后續(xù)SEM成像和分析

 

適應(yīng)多種樣品和掩膜尺寸:

 

樣品和掩膜在橫向和角度上對齊

 

單個掩膜可多次使用

 

夾持橫截面工作站(可選)

 

生產(chǎn)高質(zhì)量的橫截面樣品

 

適用于可能被粘合劑損壞的樣品;樣品通過夾持掩膜固定,無需粘合劑

 

允許精確定位感興趣區(qū)域(X、Y和θ)

 

適用于多種材料,包括半導(dǎo)體器件、多層材料、陶瓷和硬/脆材料

 

制備的感興趣區(qū)域平坦且無損傷,便于后續(xù)SEM成像和分析

 

適應(yīng)多種樣品和掩膜尺寸:

 

樣品和掩膜在橫向和角度上對齊

 

單個掩膜可多次使用

 

堆棧燈(可選)

 

堆棧燈指示器,用于從遠處確定研磨操作狀態(tài)

 

顯微鏡(可選)

 

負載鎖窗口可容納以下顯微鏡:

 

7至45倍立體顯微鏡附件,用于直接觀察樣品

 

525倍高倍顯微鏡和CMOS(互補金屬氧化物半導(dǎo)體)相機系統(tǒng),用于特定位置的圖像采集和顯示

 

1,960倍高倍顯微鏡和CMOS相機系統(tǒng),用于特定位置的圖像采集和顯示

 

樣品照明

 

高倍顯微鏡和立體顯微鏡均配備光源,提供自上而下、用戶可調(diào)的反射樣品照明

 

外殼尺寸

 

寬度(包括兩側(cè)的維護空間):127 cm [50 in.]

 

高度:

 

最小高度(無顯微鏡或堆棧燈選項):61 cm [32 in.]

 

最大高度(帶堆棧燈選項):77 cm [38 in.]

 

深度(包括維護空間和排氣扇氣流空間):102 cm [40 in.]

 

外殼設(shè)計便于維護時輕松訪問內(nèi)部組件

 

咨詢電話:13522079385

 

重量

 

73 kg [161 lb.]

 

電源

 

100/120/220/240 VAC, 50/60 Hz, 720 W

 

保修

 

一年


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